Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales (Ginebra, 20 de mayo de 2010)
27 de mayo de 2010
La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando conjuntamente con
la Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) y la Oficina de Armonización del Mercado
Interior (Marcas, Dibujos y Modelos) (OAMI) las “
Jornadas sobre Protección de los Diseños: Diseño Registrado”, en Madrid, Alicante y
Barcelona, 7 de junio de 2010, el 9 de junio de 2010 y el 10 de junio de 2010,
respectivamente. Las jornadas se llevarán a cabo en español.
El objetivo de las jornadas es ofrecer una visión global sobre las posibilidades de protección
de los diseños industriales a nivel nacional, comunitario e internacional. Está dirigido a los
diseñadores, agentes de propiedad industrial y representantes, PYMES, asociaciones de diseño,
académicos, etc.
Para mayor información sobre las jornadas y para registrarse en línea, por favor sírvase
contactar a:
Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM)
Paseo de la Castellana 75
28071 Madrid
+3491 349 54 49 or +3491 349 84 45
Preguntas o consultas
Sistema de la Haya de la OMPI – Sistema internacional para los dibujos y modelos industriales
El Sistema de La Haya de la OMPI ofrece un mecanismo internacional único para obtener y gestionar simultáneamente derechos sobre dibujos y modelos en más de 90 países, mediante la presentación de una única solicitud en un idioma y pagando un conjunto de tasas.