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Reservas, declaraciones, notificaciones e incompatibilidades relativas al PCT

(Tabla actualizada el 2 de diciembre de 2024)

Estados
Artículos del PCT
22.1) Decisión de la Asamblea de la Unión del PCT de 3 de octubre de 2001 (PCT/A/30/7 (en inglés), Anexo IV) Luxemburgo, República Unida de Tanzanía
64.2)a)ii) Finlandia, Noruega, Polonia, Suecia
64.3)a) Estados Unidos de América
64.4)a) Estados Unidos de América
64.5) Argelia, Armenia, Bahrein, Belarús, Chile, Cuba, Federación de Rusia, Francia, Georgia, Hungría, India, Indonesia, Irán (República Islámica del), Kazajstán, Kirguistán, Malasia, Malta, Mozambique, Omán, Qatar, República Democrática Popular Lao, República de Moldova, Rumania, Samoa, San Vicente y las Granadinas, Santa Lucía, Sudáfrica, Tayikistán, Tailandia, Túnez, Turkmenistán, Ucrania, Uzbekistán
Oficinas y Organizaciones Intergubernamentales
Reglas del PCT
4.9.b) DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  JP Oficina Japonesa de Patentes (JPO)
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
20.1.d) US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
20.8.a)1, 7    CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  ID Dirección General de la Propiedad Intelectual (Indonesia)
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
20.8.a-bis)5, 7, 8 CL Instituto Nacional de Propiedad Industrial (Chile)
CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
ES Oficina Española de Patentes y Marcas
FR Instituto Nacional de la Propiedad Industrial (INPI) (France)
ID Dirección General de Propiedad Intelectual (Indonesia)
KR Oficina Coreana de Propiedad Intelectual
MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
20.8.b)9 CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  ID Dirección General de la Propiedad Intelectual (Indonesia)
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
  TR Oficina Turca de Patentes y Marcas (Turkpatent)
20.8.b-bis)6, 89 CL Instituto Nacional de Propiedad Industrial (Chile)
CN Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China (CNIPA)
CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
ES Oficina Española de Patentes y Marcas
ID Dirección General de Propiedad Intelectual (Indonesia)
KR Oficina Coreana de Propiedad Intelectual
MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
TR Oficina Turca de Patentes y Marcas (Turkpatent)
23bis.2.b) DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  FI Oficina Finlandesa de Patentes y Registros (PRH)
  SE Oficina Sueca de Propiedad Intelectual (PRV)
23bis.2.e)2 AU Oficina Australiana de Patentes
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  FI Oficina Finlandesa de Patentes y Registros (PRH)
  HU Oficina Húngara de la Propiedad Industrial (HIPO)
  IL Oficina Israelí de Patentes
  JP Oficina Japonesa de Patentes (JPO)
  NO Oficina Noruega de la Propiedad Industrial
  SE Oficina Sueca de Propiedad Intelectual (PRV)
  SG Oficina de la Propiedad Intelectual de Singapur
  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
26.3ter.b)  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
26.3ter.d)  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
26bis.3.j)1, 3, 7   BR Instituto Nacional de la Propiedad Industrial (Brasil)
  CO Superintendencia de Industria y Comercio (Colombia)
  CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  DZ Instituto Nacional Argelino de la Propiedad Industrial
  GR Organización de la Propiedad Industrial (OBI) (Grecia)
  ID Dirección General de la Propiedad Intelectual (Indonesia)
  IN Oficina de Patentes de la India
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  PH Oficina de Propiedad Intelectual de Filipinas
49.5.l)  Respecto a la Regla 49.5.c-bis):
  BR Instituto Nacional de la Propiedad Industrial (Brasil)
  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
  Respecto a la Regla 49.5.k):
  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
49.6.f) CA Oficina Canadiense de la Propiedad Intelectual
  CN Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China (CNIPA)
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  IN Oficina de Patentes de la India
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  LV Oficina Letona de Patentes
  MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
  NZ Oficina de la Propiedad Intelectual de Nueva Zelandia
  PH Oficina de Propiedad Intelectual de Filipinas
  PL Oficina de Patentes de la República de Polonia
49ter.1.g)3, 410 BR Instituto Nacional de la Propiedad Industrial (Brasil)
  CO Superintendencia de Industria y Comercio (Colombia)
  CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  DZ Instituto Nacional Argelino de la Propiedad Industrial
  ID Dirección General de la Propiedad Intelectual (Indonesia)
  IN Oficina de Patentes de la India
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  LT Oficina Estatal de Patentes de la República de Lituania
  MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
  PH Oficina de Propiedad Intelectual de Filipinas
49ter.2.h)310 BR Instituto Nacional de la Propiedad Industrial (Brasil)
  CA Oficina Canadiense de la Propiedad Intelectual
  CO Superintendencia de Industria y Comercio (Colombia)
  CU Oficina Cubana de la Propiedad Industrial
  CZ Oficina de Propiedad Industrial de la República Checa
  DE Oficina Alemana de Patentes y Marcas
  DZ Instituto Nacional Argelino de la Propiedad Industrial
  ID Dirección General de la Propiedad Intelectual (Indonesia)
  IN Oficina de Patentes de la India
  KR Oficina Coreana de la Propiedad Intelectual
  MX Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial
  PH Oficina de Propiedad Intelectual de Filipinas
51bis.3.c) SG Oficina de la Propiedad Intelectual de Singapur
66.1bis.b)  EP Oficina Europea de Patentes (EPO)
Instrucciones Administrativas del PCT
703.f) Respecto a la Instrucción 703.b)ii) a iv) y a las secciones correspondientes al Anexo F de las Instrucciones Administrativas:
  US Oficina de Patentes y Marcas de los Estados Unidos de América (USPTO)
  Respecto a la Instrucción 703.b)ii) a iv) en la medida en que estas disposiciones correspondan a las Secciones 5.1 y 5.2.1 del Anexo F de las Instrucciones Administrativas y a las Secciones 2.d) a g) del Apéndice III del Anexo F de las Instrucciones Administrativas:
  JP Oficina Japonesa de Patentes (JPO)
  1. La Oficina de la Propiedad Intelectual (Bélgica) ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de las Reglas 20.8.a) y 26bis.3.j) del PCT a partir del 1 de abril de 2018.
  2. El Instituto Federal Suizo de la Propiedad Intelectual ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de la Regla 23bis.2.e) del PCT a partir del 1 de enero de 2019.
  3. La Oficina Noruega de la Propiedad Industrial ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de las Reglas 26bis.3.j), 49ter.1.g)  y 49ter.2.h) del PCT a partir del 1 de julio de 2019.
  4. La Oficina Canadiense de Propiedad Intelectual ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de la Regla 49ter.1.g) del PCT a partir del 30 de octubre de 2019 con respecto a las solicitudes internacionales que tengan una fecha de presentación internacional a partir del 30 de octubre de 2019.
  5. Las Oficinas (en su calidad de Oficinas receptoras) de los Estados que figuran en esta tabla han notificado a la Oficina Internacional que las Reglas 20.5bis.a)ii) y 20.5bis.d)  del PCT, no son compatibles o no pueden reputarse compatibles con la legislación nacional aplicada por la Oficina; o bien se considera que dichas Oficinas han informado de esa incompatibilidad a la Oficina Internacional mediante una notificación presentada en virtud de la  Regla 20.8.a) del PCT que aún está vigente.
  6. Las Oficinas (en su calidad de Oficinas designadas) de los Estados que figuran en esta tabla han notificado a la Oficina Internacional que las Reglas 20.5bis.a)ii) y 20.5bis.d) del PCT, no son compatibles o no pueden reputarse compatibles con la legislación nacional aplicada por la Oficina; o bien se considera que dichas Oficinas han informado de esa incompatibilidad a la Oficina Internacional mediante una notificación presentada en virtud de la Regla 20.8.b) del PCT que aún está vigente.
  7. La Oficina Italiana de Patentes y Marcas retiró su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de la Regla 20.8.a) del PCT, lo que también se considerará aplicable a la Regla 20.8.a-bis) del PCT, y en virtud de la Regla 26bis.3.j) del PCT a partir del 1 de julio de 2020.
  8. La Oficina Europea de Patentes ha retirado su notificación de incompatibilidad en virtud de las reglas 20.8.a-bis) y 20.8.b-bis) del PCT a partir del 1 de noviembre de 2022.
  9. La Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China (CNIPA) ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de las Reglas 20.8.b) y 20.8.b-bis) del PCT a partir del 20 de enero de 2024, y las Reglas pertinentes del PCT se aplicarán a las solicitudes internacionales que entren en la fase nacional a partir del 20 de enero de 2024.
  10. La Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China (CNIPA) ha retirado su notificación de incompatibilidad con su legislación nacional en virtud de las Reglas 49ter.1.g) y 49ter.2.h) del PCT a partir del 20 de enero de 2024, y las Reglas pertinentes del PCT se aplicarán a las solicitudes internacionales respecto de las cuales el plazo de dos meses a partir de la fecha de entrada en la fase nacional expire el 20 de enero de 2024 o después.